AWS E10015-D2 ୱେଲ୍ଡିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ଷ୍ଟିଲ୍ ୱେଲ୍ଡିଂ ରଡ୍

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ବର୍ଣ୍ଣନା:

ଏହା ଏକ ନିମ୍ନ-ତାପମାନର ଇସ୍ପାତ ୱେଲ୍ଡିଂ ରଡ୍ ଯାହା ନିକେଲ୍ ଧାରଣ କରି କମ୍ ସୋଡିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ଆବରଣ କରିଥାଏ। ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ଥିତି ୱେଲ୍ଡିଂ dc ରିଭର୍ସ ସଂଯୋଗ ଦ୍ୱାରା କରାଯାଇପାରିବ। -80°C ରେ ୱେଲ୍ଡ ଧାତୁରେ ଏବେ ବି ଭଲ ପ୍ରଭାବ କଠିନତା ରହିଛି।


ଉତ୍ପାଦ ବିବରଣୀ

ଉତ୍ପାଦ ଟ୍ୟାଗ୍‌ଗୁଡ଼ିକ

ଷ୍ଟିଲ୍ ଗ୍ରେଡ୍ ପ୍ରକାର

ଛାଞ୍ଚ ଇସ୍ପାତ:

ମାନାଙ୍କ

ଉତ୍ପାଦନ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ

ଷ୍ଟିଲ୍ ପ୍ଲେଟ୍, ଚାଦର, କଏଲ, ଫ୍ଲାଟ୍ ବାର୍, ଗୋଲ ବାର୍, ଷ୍ଟ୍ରିପ୍ ଷ୍ଟିଲ୍, ତାର, ସମସ୍ତ ପ୍ରକାରର ଫୋର୍ଜିଂ।

ମଚିନିଂ

ମୋଡ଼ିବା

ମିଲିଂ

ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ

ଗଭୀର ଗାତ ଖନନ: ସର୍ବାଧିକ ଲମ୍ବ 9.8 ମିଟର।

କାର୍ଯ୍ୟର ପରିସର

ଗୋଲ ବାର୍ ଷ୍ଟିଲ୍: 1mm ରୁ 2000mm

ବର୍ଗାକାର ଇସ୍ପାତ: 10mm ରୁ 1000mm

ଷ୍ଟିଲ୍ ପ୍ଲେଟ୍/ସିଟ୍: ୦.୦୮ ମିମି ରୁ ୮୦୦ ମିମି

ପ୍ରସ୍ଥ: ୧୦ ମିମି ରୁ ୧୫୦୦ ମିମି

ଲେନ୍ଥ: ଗ୍ରାହକଙ୍କ ଆବଶ୍ୟକତା ଅନୁସାରେ ଆମେ ଯେକୌଣସି ଲେନ୍ଥ ଯୋଗାଇପାରିବୁ।

ଫୋର୍ଜିଂ: ଫ୍ଲାଙ୍କ୍ସ/ପାଇପ୍ସ/ଟ୍ୟୁବ୍ସ/ସ୍ଲଗ୍ସ/ଡୋନଟ୍ସ/କ୍ୟୁବ୍ସ/ଅନ୍ୟ ଆକୃତି ସହିତ ଶାଫ୍ଟ

ଟ୍ୟୁବିଂ: OD: φ4-410 ମିମି, କାନ୍ଥ ଘନତା 1-35 ମିମି ମଧ୍ୟରେ।

ଗରମ ଚିକିତ୍ସା

ସାଧାରଣୀକରଣ, ଆନିଲିଂ, ଟେମ୍ପରିଂ, କ୍ୱେନଚିଂ, କଠିନ ଏବଂ ଟେମ୍ପରିଂ, ସିଜନିଂ, ପୃଷ୍ଠ କଠିନ କରିବା, କାର୍ବୁରାଇଜିଂ

AWS E10015-D2 ରାସାୟନିକ ଗଠନ ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଧର୍ମ:

C

Si

Mn

P

S

Cr

Ni

୦.୧୫

୦.୬

୧.୬୫-୨.୦

୦.୦୩

୦.୦୩

≤0.9

Mo

Al

Cu

Nb

Ti

V

Ce

୦.୨୫-୦.୪୫

N

Co

Pb

B

ଅନ୍ୟାନ୍ୟ

ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଧର୍ମ:

ଗୁଣଧର୍ମସମୂହ

ସର୍ତ୍ତାବଳୀ

ଟି (°ସେ.)

ଚିକିତ୍ସା

ଘନତା (×୧୦୦୦ କିଲୋଗ୍ରାମ/ମି୩)

୭.୭-୮.୦୩

25

ପୋଇସନଙ୍କ ଅନୁପାତ

୦.୨୭-୦.୩୦

25

ଇଲାଷ୍ଟିକ୍ ମଡ୍ୟୁଲସ୍ (GPa)

୧୯୦-୨୧୦

25

ଟେନସାଇଲ୍ ଶକ୍ତି (Mpa)

୧୧୫୮

25

ତେଲ ନିବାରଣ, ସୂକ୍ଷ୍ମ ଦାନାଯୁକ୍ତ, ୪୨୫°C ରେ ଟେମ୍ପରଡ୍

ଉତ୍ପାଦନ ଶକ୍ତି (Mpa)

୧୦୩୪

ଦୀର୍ଘତା (%)

15

କ୍ଷେତ୍ରଫଳ ହ୍ରାସ (%)

53

କଠିନତା (HB)

୩୩୫

25

ତେଲ ନିବାରଣ, ସୂକ୍ଷ୍ମ ଦାନାଯୁକ୍ତ, ୪୨୫°C ରେ ଟେମ୍ପରଡ୍

ତାପଜ ଗୁଣଧର୍ମ:

ଗୁଣଧର୍ମସମୂହ

ସର୍ତ୍ତାବଳୀ

ଟି (°ସେ.)

ଚିକିତ୍ସା

ତାପଜ ପରିବାହିତା (W/mK)

୪୨.୭ ୧୦୦

ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଉତ୍ତାପ (J/kg-K)

୪୭୭ ୫୦-୧୦୦

ଭୌତିକ ଗୁଣଧର୍ମ:

ପରିମାଣ ମୂଲ୍ୟ ୟୁନିଟ୍
ତାପଜ ବିସ୍ତାର ୧୬ - ୧୭ ଇ-୬/କେ
ତାପଜ ପରିବାହୀତା ୧୬ - ୧୬ ପଶ୍ଚିମ/ମିଲିକେଲ
ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଉତ୍ତାପ ୫୦୦ - ୫୦୦ ଜେ/କେଜି.କେ.
ତରଳିବା ତାପମାତ୍ରା ୧୩୭୦ - ୧୪୦୦ °ସେ.
ସେବାର ତାପମାତ୍ରା ୦ - ୫୦୦ °ସେ.
ଘନତ୍ୱ ୮୦୦୦ - ୮୦୦୦ କିଲୋଗ୍ରାମ/ମି୩
ପ୍ରତିରୋଧକତା ୦.୭ - ୦.୭ ଓମ ମିମି2/ମି

E7015-G କମ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ସୋଡିୟମ୍ ଆବରଣ ୱେଲ୍ଡିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍

ବର୍ଣ୍ଣନା:

ଏହା ଏକ ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାର ଇସ୍ପାତ ୱେଲ୍ଡିଂ ରଡ୍ ଯାହା ନିକେଲ ଧାରଣ କରିଥିବା କମ୍ ସୋଡିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ଆବରଣ ସହିତ ନିର୍ମିତ। ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ଥିତି ୱେଲ୍ଡିଂ dc ରିଭର୍ସ ସଂଯୋଗ ଦ୍ୱାରା କରାଯାଇପାରିବ। -80°C ରେ ୱେଲ୍ଡ ଧାତୁରେ ଏବେ ବି ଭଲ ପ୍ରଭାବ କଠିନତା ରହିଛି।

ବ୍ୟବହାର:

ୱେଲ୍ଡିଂ -80°C କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ 1.5Ni ଇସ୍ପାତ ଗଠନ।

ଜମା କରାଯାଇଥିବା ଧାତୁ ରାସାୟନିକ ଗଠନ:

C Mn Si Ni S P
ମାନାଙ୍କ ≤0.08 ≤୧.୨୫ ≤0.60 ≥୧.୦୦ ≤0.035 ≤0.035
ପରୀକ୍ଷା ୦.୦୪୫ ୦.୬୦ ୦.୨୭ ୧.୮୦ ୦.୦୧୦ ୦.୦୧୫

ଜମା କରାଯାଇଥିବା ଧାତୁ ଯାନ୍ତ୍ରିକ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା:

ଟେନସାଇଲ୍ ଷ୍ଟ୍ରେନ୍ଥ୍ଥ Rm (MPa) ଉତ୍ପାଦନ ଶକ୍ତି ରିଲେ (MPa) ଦୀର୍ଘତା A (%) -80°C ପ୍ରଭାବ ମୂଲ୍ୟ Akv (J)
ମାନାଙ୍କ ≥୪୯୦ ≥୩୯୦ ≥୨୨ ≥୨୭
ପରୀକ୍ଷା ୫୩୦ ୪୪୫ 30 ୧୦୦

ରେଫରେନ୍ସିଆଲ୍ କରେଣ୍ଟ (DC+):

ବ୍ୟାସ (ମିମି) ୩.୨ ୪.୦ ୫.୦
ଲମ୍ବ (ମିମି) ୩୫୦ ୪୦୦ ୪୦୦
ବର୍ତ୍ତମାନର (A) ୯୦-୧୨୦ ୧୪୦-୧୮୦ ୧୮୦-୨୧୦

E12015-G

GB E8515-G ଅନୁସାରେ

AWS E12015-G ସହିତ ସମ୍ବନ୍ଧୀୟ

ପରିଚୟ: E12015-G ହେଉଛି ଏକ ପ୍ରକାରର କମ୍-ମିଶ୍ରୟ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ବିଶିଷ୍ଟ ଇସ୍ପାତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଯାହା ଉପରେ କମ୍-ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ନେଟ୍ରିୟମ୍ ପ୍ରକାରର ଆବରଣ ଅଛି। DCRP (ଡାଇରେକ୍ଟ କରେଣ୍ଟ ରିଭର୍ସଡ୍ ପୋଲାରଟି)। ସମସ୍ତ-ସ୍ଥାନ ୱେଲ୍ଡିଂ।

ପ୍ରୟୋଗ: ପ୍ରାୟ 830MPa ର ଟେନସାଇଲ୍ ଶକ୍ତି ସହିତ କମ୍-ମିଶ୍ରୟ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ବିଶିଷ୍ଟ ଇସ୍ପାତ ଗଠନ ପାଇଁ ୱେଲ୍ଡିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।

ଜମା ହୋଇଥିବା ଧାତୁର ରାସାୟନିକ ଗଠନ (%)

ରାସାୟନିକ ଗଠନ

C

Mn

Si

S

P

Mo

ଗ୍ୟାରେଣ୍ଟି ମୂଲ୍ୟ

≤0.15

≥୧.୦୦

୦.୪~୦.୮

≤0.035

≤0.035

୦.୬୦~୧.୨୦

ସାଧାରଣ ଫଳାଫଳ

≤0.10

~୧.୫୦

≤0.70

≤0.020

≤0.020

~୦.୯୦

ଜମା ହୋଇଥିବା ଧାତୁର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ

ପରୀକ୍ଷା ଆଇଟମ୍

Rm(ଏମ୍ପିଏ)

Rଇଏଲ୍ କିମ୍ବାRପୃ ୦.୨(ଏମ୍ପିଏ)

କ(%)

KV2(ଜେ)

ଗ୍ୟାରେଣ୍ଟି ମୂଲ୍ୟ

≥୮୩୦

≥୭୪୦

≥୧୨

—(ସ୍ୱାଭାବିକ ତାପମାତ୍ରା)

ସାଧାରଣ ଫଳାଫଳ

୮୬୦~୯୫୦

≥୭୫୦

୧୨~୨୦

≥୨୭

ଜମା ହୋଇଥିବା ଧାତୁରେ ବିସ୍ତାରିତ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ ପରିମାଣ: ≤5.0ml/100g (କ୍ରୋମାଟୋଗ୍ରାଫି)

ଏକ୍ସ-ରେ ରେଡିଓଗ୍ରାଫିକ୍ ଯାଞ୍ଚ: Ⅰଡିଗ୍ରୀ

ନିର୍ଦ୍ଦେଶାବଳୀ:

୧.ୱେଲ୍ଡିଂ ପୂର୍ବରୁ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡଗୁଡ଼ିକୁ ୩୫୦-୪୦୦℃ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗୋଟିଏ ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ ବେକ୍ କରିବାକୁ ପଡିବ, ଏକ ଇନସୁଲେସନ କ୍ୟାନରେ ରଖିବାକୁ ପଡିବ ଏବଂ ଆବଶ୍ୟକ ହେବା ମାତ୍ରେ ପ୍ରୟୋଗ କରିବାକୁ ପଡିବ।

୨. ୱେଲ୍ଡରେ ଥିବା ଦାଗ ଯେପରିକି କଳଙ୍କି ସଫା କରିବାକୁ ପଡିବ, ଏବଂ ୱେଲ୍ଡକୁ ପ୍ରାୟ ୨୦୦ ℃ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗରମ କରିବାକୁ ପଡିବ।

୩. ୱେଲ୍ଡିଂ ପରେ ୱେଲ୍ଡକୁ ୬୦୦-୬୫୦ ℃ ତଳେ ଟେମ୍ପର କରାଯାଇପାରିବ ଯାହା ଦ୍ୱାରା ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଚାପ ଦୂର ହୋଇପାରିବ।


  • ପୂର୍ବବର୍ତ୍ତୀ:
  • ପରବର୍ତ୍ତୀ: